<p id="5bdff"></p>

      <address id="5bdff"></address>

          <address id="5bdff"></address>

            產品中心
            首頁 > 產品中心 > 丹麥DANFOSS丹弗斯 > DANFOSS丹弗斯傳感器 > DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC 氣動電磁閥

            DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC 氣動電磁閥

            描述:DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC
            真空熱處理是指將工件置于真空中進行的熱處理工藝。真空熱處理在加熱中不產生氧化、脫碳及其他腐蝕

            更新時間:2024-03-05
            產品型號:MBC5000-1011-1CB04
            廠商性質:經銷商
            詳情介紹
            品牌其他品牌材質
            連接形式螺紋類型直通式
            適用介質水,蒸汽,油品,各種高腐蝕化學介質,弱酸堿介質,氨氣,氮氣,氧氣,氫氣,液化氣,空氣,煤氣,含塵氣體流動方向換向
            零部件及配件定位器用途儀表
            標準其他形態柱塞式
            壓力環境常壓工作溫度常溫
            公稱通徑20mm

            DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC

            真空熱處理是指將工件置于真空中進行的熱處理工藝。真空熱處理在加熱中不產生氧化、脫碳及其他腐蝕,而且具有凈化表面脫油除脂的作用。在真空中能將材料在冶煉過程中吸收的氫、氮和氧扽氣體脫出,提高材料的質量和性能。如:將W18Cr4V制作的超高壓針閥進行真空熱處理后,有效地增加了針閥的沖擊任性,同時提高了力學性能和使用壽命。

            表面強化處理

            為了提高零件的性能,除了改變材質以外,更多的是采用表面強化處理方法。如表面淬火(火焰加熱、高中頻加熱表面淬火、接觸電加熱表面淬火、電解液加熱表面淬火、激光電子束加熱表面淬火等)、滲碳、氮化、氰化、滲硼、滲金屬(TD法)、激光強化、化學氣相沉積(CVD法)、物理氣相沉積(PVD法)、等離子體化學氣相沉積(PCVD法)等離子噴涂等。

            物理氣相沉積(PVD法)

            在真空中應用蒸鍍、離子鍍、濺射等物理方法產品金屬離子,這些金屬離子在工件表面沉積,形成金屬涂層,或與反應器反應形成化合物涂層,這種處理工藝方法稱為物理氣相沉積,簡稱PVD法。此方法沉積溫度低,處理溫度400~600℃,變形小,對零件的基體組織及性能影響小。利用PVD法在W18Cr4V制造的針閥上沉積TiN層,而TiN層有的硬度(2500~3000HV)和高耐磨性,提高了閥門抗腐蝕性,在稀的鹽酸、硫酸、硝酸中不受侵蝕,能保持光亮表面。PVD處理后覆蓋層精度很好??裳心伖?,其表面粗糙度為Ra0.8&micro;m,拋光后可達到0.01&micro;m。

            DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC


            留言框

            • 產品:

            • 您的單位:

            • 您的姓名:

            • 聯系電話:

            • 常用郵箱:

            • 省份:

            • 詳細地址:

            • 補充說明:

            • 驗證碼:

              請輸入計算結果(填寫阿拉伯數字),如:三加四=7
            總訪問量:1025186   sitemap.xml
            ©2024 版權所有:上海乾拓貿易有限公司   備案號:滬ICP備09006758號-17
            在線客服
            亚洲Av无码乱码国产精品fc2,内谢少妇XXXXX8老少交,最近最新中文字幕,无码人妻一区二区三区免费手机
              <p id="5bdff"></p>

                <address id="5bdff"></address>

                    <address id="5bdff"></address>